近年来，在半导体国产化的基本国策指导之下，激发了市场对于半导体产业链的投资热潮。
1、什么是高纯铜
高纯铜是指纯度在5N(Cu≥99.999%)以上的金属铜（N即代表铜的纯度，N前面的数字越大铜纯度越高）。从现行标准来看，高纯铜按铜含量分为四个牌号，分别为HPCu-7N，HPCu-6N5，HPCu-6N，HPCu-5N。
根据国家科技重大专项中关于集成电路装备（02专项）005课题“45-28nm配线用超高纯Cu合金材料制备与产业化”，高纯铜作为专项配套材料，用于制备高纯靶材，主要应用于集成电路、大尺寸显示器等半导体领域，是促进微电子行业发展的关键材料。因此，为了解高纯铜的应用及市场发展，需要对靶材行业进行深入研究及分析。
2、靶材行业概览
靶材作为半导体产业链上游重要的原材料之一，在半导体的制造及生产环节，起到关键性作用。根据《半导体行业用靶材及蒸发源材料》一文中关于靶材的定义如下：溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度流的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基体表面。被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。真空蒸镀是将欲镀的工件和镀膜材料同时放在真空室内，抽真空，然后加热蒸发物资，使其蒸发并沉积在工件表面上。所用的镀膜材料称之为蒸发源材料。从应用目的来看，靶材和蒸发源材料均为镀层材料。我们根据文中定义，在下文中的描述以及对市场规模的预测中，将其统称为靶材。
伴随半导体工业的发展，推动了高纯靶材的兴起。通过对靶材产业链的整理，以铝、钛、铜、钽等高纯度金属为原料制备的高纯靶材产品，主要应用于下游半导体芯片、平面显示器、太阳能电池等领域。
以高纯铜的需求来看，由于下游领域对于技术及金属纯度的要求不同，半导体芯片及平面显示器为高纯铜的主要应用范围。其中，半导体用靶材对高纯铜纯度要求通常在5N5以上，平面显示器用靶材对高纯铜纯度要求在5N以上。
从靶材的应用领域占比来看，根据上市公司公开披露数据，2019年我国靶材市场规模达286亿，其中平面显示用靶材市场规模为138亿，半导体用靶材市场规模为25亿，合计占比超过55%。
通过上述分析我们可以看到，半导体及平面显示所用高纯靶材占据国内主要靶材市场，同时也直接影响到高纯铜的市场需求。
3、靶材市场发展分析
受到发展历史和技术限制的影响，国内靶材行业起步较晚，自2000年发展至今经历了两个阶段。2000年-2010年，作为靶材行业的技术突破阶段，在国内大力发展电子工业的背景下，依托政府多重研发与产业化系列的政策支持，靶材行业打破了完全依赖进口的局面，行业得到初步发展，但在产品质量与精细标准上仍与国外存在差距。2011年至今，作为靶材行业的快速发展阶段，伴随全球半导体产业向中国的第三次转移，国家863计划、02专项、进口关税、材料强国战略等政策的大力扶持，加速靶材供应的本土化进程，推动国产靶材在多个应用领域实现从无到有的跨越。目前国内在半导体市场和平板显示市场应用方面已达到国际领先水平，并形成自主核心技术体系。近年来国内涌现出了一批优秀的靶材企业，如江丰电子、有研新材、隆华节能、阿石创、北京格林东辉真空科技、江西睿宁高新技术材料、江苏比昂电子材料等。
以高纯铜靶为例，日矿金属（日本）作为世界最大的铜靶材供应商，占据世界铜靶材市场份额近80%。从国内来看，有研新材作为国内靶材龙头之一，目前超高纯铜产品纯度稳定达到6N，最高纯度为7N，产能达到年产100吨以上，为我国屈指可数实现6N超高纯铜原料工业化批量稳定生产的企业，产品率先应用于国产高性能溅射靶材和蒸发材料的生产，打破了国外对电子信息用超高纯原材料的垄断。
除了行业市场被垄断外，从市场规模来看，国内靶材市场规模全球占比也相对较低。2019年全球靶材市场规模为170.37亿美元，其中平面显示用靶材市场规模57.9亿美元，半导体用靶材市场规模17亿美元。根据上文数据进行大概计算，国内靶材规模全球占比约26%，其中平面显示用靶材规模全球占比约37%，半导体用靶材规模全球占比约23%。
4、靶材及高纯铜未来市场展望
根据国家2021年3月出台的“十四五”规划指出，推进集成电路高纯靶材等关键材料研发，在税收政策等政策法规对半导体行业作出重大支持，包括在进出口、税收减免、投融资、知识产权、学科建设等给予大力支持。同时，根据上市公司公开披露数据，2016年-2019年，国内平板显示用靶材及半导体靶材市场规模平均增速均在20%左右。在国家政策扶持及产业发展背景下，我们预测平板显示及半导体靶材市场规模增速将至少维持在每年20%。根据市场数据，在靶材生产成本在，原材料占靶材成本约80%，由此进行估算靶材原料市场规模，由于铜靶材在分项领域的没有具体的占比数据，因此我们分别以30%、40%及50%进行估计，则至2025年，高纯铜市场规模预计将达到117亿-195亿左右。
根据中国冶金研究总院数据，目前在销的5N高纯铜粒市场价在30万元/吨，以该数据进行测算，国内高纯铜需求将在4万-6万吨左右。如按国内企业市场份额占比20%进行计算，则在8000-12000吨左右。而目前国内铜靶龙头有研新材的高纯铜年产量仅为100吨。因此，在靶材供应本土化的推进以及靶材行业的整体发展趋势下，将对国内高纯铜市场需求带来极大的提振。
5、总结
通过上述分析测算我们可以看到，国内的高纯铜市场需求乐观，但作为靶材行业上游，国内靶材供应本土化以及靶材行业的发展从根本上决定了高纯铜未来市场的发展趋势。目前，靶材市场仍被日、美等国外企业垄断，同时，受制于国内高纯度加工技术及规模化生产能力相对较低，因此，国内企业对于科技技术的研发以及高纯铜产能和靶材产能的提升，将成为未来行业发展的重点所在。
6、写在最后
在我们深度研究高纯铜这一细分领域的时候，我们发现国内高纯铜及靶材在未来存在巨大的市场潜力，由此，国内龙头靶材供应商-有研新材（6000206）也走进了我们的视野，这里简单给大家做个介绍。
有研新材前身是北京有色金属研究总院下属的半导体材料国家工程研究中心以及红外材料研究所。自1999年上市以来，经过多年发展，公司在2014年通过重大资产购买和出售，注入有研亿金、有研稀土、有研光电等公司，在2019年7月设立雄安稀土，在2019年12月设立有研稀土。
正如上述所提及的，有研新材为我国屈指可数实现6N超高纯铜原材料工业化批量稳定生产的企业，同时，在12寸半导体芯片用靶材领域已成为国内主流客户的第一供应商。根据其财务数据显示，2020年度公司实现营业收入129亿元，较上年同期增长超过24%，完成全年预算目标的111%。实现净利润1.8亿元，较上年增长56%。“十三五”期间公司收入增长400%，净利润增长461%。可以看到，在国家的政策支持下，有研新材把握住了发展契机，在新材料领域开拓出了一条成功之路。
超高纯铜的制备方法和应用
1、前言
铜是一种具有良好导电、导热性的金属，而且它的可锻性和延展性也较好。铜通常用来生产导线和铜管，也可以被压制、抽拉、铸造成各种产品。随着近代半导体工业的迅速发展。超高纯铜的应用被广泛重视。如果铜的纯度可以达到5N(99.999%)或更高的6N(99.9999％)，那么它的各种物理性能将得到很大的提高。例如：把5N或6N的铜应用于音响器材的集成电路，制作音响电缆，将大大提高声音的保真度；制作半导体的黄金粘接线也可以用这种纯度的铜替代，可以节约成本；超高纯铜的软化温度低、展性良好，可以很容易地拉制成￠20μm～30μm的细丝。通过超高纯铜的利用可以提高电子产品的质量，同时又能降低制造成本。
通常所说的超高纯铜是指纯度为5N～7N的铜，有关铜的高度提纯技术开发是比较早的。1941年SmartJr等进行了电解精炼的研究，将电解液高度净化，同时结合硫酸铜溶液与硝酸铜溶液进行多次电解，电解所得的铜利用可控气氛熔炼等技术，获得了纯度为5N的产品。从20世纪50年代中期开始,出现了以区熔精炼来提纯金属的方法,并立即被用来提纯铜，这样,铜的高纯化技术得到了进一步的发展。近年又出现了以离子交换为基础的提纯铜的方法,并取得了良好的效果.现代科技的发展对材料性能的要求不断提高,超高纯铜具有许多优良的性能，能满足现代许多尖端科技的技术要求,并已经在许多方面得到应用，取得了良好的效果。
2、制取方法
2.1电解精炼法
当今,电解精炼是获取高纯铜的主要方法,在提纯铜的方法中电解精炼法应用最广、实践最多、技术最成熟。在今后规模生产超高纯铜的方法中，电解精炼法是最有前景的。电解精炼超高纯铜的主体是对电解液进行高度纯化，用较高纯度的铜进行再电解，根据电解液的种类，可分为：(1)硫酸铜溶液体系；(2)硝酸铜溶液体系；(3)硫酸铜溶液+硝酸铜溶液体系3种。
2.1.1硫酸铜溶液电解法
与通常的粗铜电解条件相比，超高纯铜的电解精炼不但电解条件要改变，而且电解液及所用的材质都必须高纯化，故电解过程中电解液的净化必须加以改进，使用有效的除杂和过滤装置是必要的。
原材料及电解液的高纯化：为保持电解液的纯净度，控制电解液中杂质离子的浓度，电解精炼所用的阳极应选用纯度较高的铜，一般要求其纯度4N以上，而且阳极表面要求干净、平整、光滑。同时作阴极的种板要求厚度均匀，表面平整洁净，以便电力线能均匀分布，防止电解时阴极表面起瘤状物，同时可减少电解液中的悬浮杂质粘附于阴极表面。为保证电解液的洁净，采用高纯硫酸铜配制电解液，同时采用由酸性硫酸铜水溶液蒸发结晶精致后的硫酸铜与电子纯硫酸来配制电解液。在电解精炼超高纯铜时，为防止阳极泥和悬浮杂质粘附于阴极表面而造成对阴极的污染，同时为便于电解液的净化，可采用隔膜电解方式，它包括包覆阳极法和包覆阴极法。
2．1.2硝酸铜溶液体系电解法
由于以硝酸铜溶液体系电解精炼超高纯铜在实践中取得良好的效果，所以该方法越来越被人们重视。因制备硫酸的硫化矿常共生有多种金属，故硫酸中重金属的含量远高于硝酸，再加上硫酸盐电解液的酸含量要求比硝酸盐电解液的酸含量高很多，所以硝酸铜溶液体系的杂质浓度远低于硫酸铜溶液体系，而且以硝酸铜溶液作电解液有利于As、Sb、Bi被氧化成高价酸根离子或生成胶状沉淀，从而防止其在阴极析出，因此有利于电解液保持澄清，同时又可提高铜的溶解度。
(1)采用隔膜电解方式的硝酸铜溶液电解精炼
用隔膜将阳极与阴极分开，阳极室的含杂电解液经脱银处理过滤后供给阴极室。以4N级铜作阳极进行电解，并经过一次再电解，即可由4N级铜提高至6N级超高纯铜。当电解液中银低于0.08ppm时，即使省去脱银处理,仍可获得纯度为6N以上的高纯铜。
(2)依靠硝酸铜溶液体系，以5N级高纯铜电解精炼超高纯铜
有研究者设计了一种改良硝酸铜溶液电解法，该法通过净液处理除去电解液中的杂质铁、银、硫等,并对电解液进行过滤，因为电解液纯度高，从而得到纯度很高的精炼铜。将纯度为5N的高纯铜溶于电子纯级的HNO3中，在弱真空下除去电解液中的氮化物，采用不溶阳极进行电解将银除去，以纯度为5N的高纯铜作阳极进行电解精炼，将由此而得到的高纯铜置于1.3X10-4Pa的真空下熔炼后的产品，其RRR(残余电阻率比)=10000～20000，二次电解后的精炼铜，RRR值更高达22000。
(3)从含铜蚀刻废液中提取超高纯铜。
ChoiJY等人通过电解含铜的工业蚀刻废液获取超高纯铜(99．9999％)，其装置如图1所示。在这个装置中，用4N级高纯铜制成的网状隔膜，把电解池分成了阳极室和阴极室，如果需要，可在阳极和铜网之间加装一过滤膜。电解池是用丙烯酸类树脂制成，并把电解池置于一水浴中，在电解前以200mL／min的流量向电解液通人高纯氩气(99．999％)至少30分钟，以便排出电解液中的氧气，并搅动电解液，使电解液各部均匀。电解前用硝酸调节电解液的酸度至适合的pH，并用孔径为0．22μm的滤纸过滤一次。阳极和阴极用硝酸溶液清洗，并用蒸馏水冲洗3次。电解前，电解液以50ml/min的流速按阴极室→泵→阳极室→铜网→阴极室的方向循环至少2小时，以便电解液中的Ag﹢能在铜网上充分还原。电解液循环后，把阴阳极插入电解液，在阳极和铜网之间放置孔径为0．35μm的过滤膜，然后接上电源进行电解。在电解时，对电解液的pH进行监控，当pH值偏离最佳值时，可以加硝酸进行调节。通过电解得到的铜，经分析其纯度达到6N以上。
2.1.3硫酸铜溶液电解与硝酸铜溶液电解组合
还有研究者采用硫酸铜溶液电解与硝酸铜溶液电解相结合来制取超高纯铜的方法，以4N级的电解铜(Ag﹢7ppm～12ppm，S2ppm～6ppm)作阳极在硫酸铜电解液中进行一次电解，在硝酸铜溶液中进行二次再电解。在硫酸铜溶液电解中，通过隔膜电解方式将阳极液经净化脱银处理，过滤后使之循环，据此获得Ag≤0.01ppm，S≤0.05ppm,Fe≤0.05ppm,Ni≤0.05ppm,其余杂质含量为分析临界下限以下，RRR≥10000的超高纯铜。
2.2区熔精炼
区熔精炼是获得超高纯金属的主要方法,区熔精炼是一物理过程。当一个狭窄的熔区沿一个金属料锭,由一端向另一端移动时,其中使金属凝固点降低的杂质,将随熔区前进的方向移动,而使金属凝固点升高的杂质，将随熔区前进的反方向移动，这样经过多次以后,金属中的两类杂质将分别集中在金属料锭的两端，而其余的部分就被纯化。铜的区熔精炼是从1955年开始发展起来的，其已成为当今精炼超高纯铜的基本方法，其中最引人注目的是“漂浮区熔精炼法”和“脱硫区熔精炼法”。
山田以5N电解铜作原料，将它放人长300mm的高纯石墨舟内，于圆形石英管中由外部依靠双层扁平线圈(doublelayerpancakecoil)进行高频感应加热，以熔融带宽30mm～50mm进行区熔。精炼第一阶段是在经净化处理的氩+氢(10：1)混合气流中区熔8次(移动速度25μm／s)，然后切除锭后端的1／3，该部分用另外已经区熔过的材料置换。精炼第二阶段，又进行8次区熔(移动速度1lμm/s)，制成285mm×20mm×25mm的精致锭。经实验测定,其纯度为迄今最高水准的铜。
2.2.1漂浮区熔精炼法
因铜熔体密度高,表面张力小，所以保持漂浮区熔部位很困难,通过采用圆锥形感应线圈，能制成靠电磁力使熔融铜稳定保持漂浮区熔部位的精炼装置。起始原料为硝酸铜溶液电解精炼过的RRR=10000的高纯铜制成的￠9.5mm×L150mm的铜棒，将它用漂浮区熔精炼9次后进行真空退火，在产品始端一侧，RRR=22000,证实了极高的纯度。另外,在实验中也证实,值随气氛气体中微量氧及氢的影响有很大变化。
2.2.2添加脱硫荆的区熔精炼法
在电子工业中经常需要用到纯度高而且特别软的铜线，故铜中杂质铁与硫的含量要求特别少。通过在反复电解精炼得到的高纯铜中添加脱硫剂进行区熔精炼，可降低铜中的硫含量。首先将4N级的纯铜在硫酸铜溶液中进行多次电解，以提高其纯度。分析表明，即使通过硫酸铜溶液的多次电解，铜中的硫含量也未能降至0．6ppm以下。为此选择稀土类元素作脱硫添加剂。当添加5ppm～10ppm最有效果的镧进行区熔精炼时，将精炼锭尾部切除，分析硫含量为0．1ppm，纯度得到了提高，同时硬度也有下降(HV=3l～33)。
2．3阴离子交换法制取超高纯铜
根据溶液中各金属离子与氯离子形成的络离子，在盐酸溶液中的不同稳定性以及氧化、还原条件下一价或二价铜离子和杂质离子分配系数的巨大差异，通过适当控制HCI浓度从氯化物溶液中清除杂质。通过离子交换，除去铜溶液中的杂质离子，然后蒸干溶液得到高纯的CuCI2，对CuCI2进行还原，便可得到超高纯的铜。
TamasKekesi等通过实验研究，得到了利用阴离子交换制取超高纯铜的可行方法。实验中选用商业用的具有强交换能力的DIAIONSAIOA阴离子交换树脂(聚苯代二乙烯基季铵型阴离子交换树脂)。离子交换柱的直径70mm，填装树脂体积2.7dm3，离子交换装置的各部件用耐腐蚀的塑料制成。实验时，先把商业用高纯CuCh溶于4mol／L盐酸中，盐酸是商业特纯级的(日本工业分级标准)，所用的去离子水要求电导率低于0.1MScm-1。在进行离子交换之前,溶液加入纯度大于4N的铜刚烈搅拌，之后引入体积为5dm3的封闭的反应器，然后不断地通入氮气，以便把离子交换装置体系中的空气赶出。根据计算好的一定量的溶液在氮气压力下注入第一交换柱，通过一次离子交换后的溶液加纯水稀释后再进行一次阴离子交换，这样所得的纯CuCl2-HC1溶液在一石英器里蒸干，晶体CuCI在一用电加热的石英器中还原，还原所得的纯的海绵状铜在H2-Ar(10：1)的保护气氛下熔化浇铸成块状样品。通过实验检测。铜的纯度达到了6N以上。
3、超高纯铜的应用
3.1性能
5N～7N的超高纯铜所含的杂质非常少，因此其具有最小的晶界面积，同时晶格缺陷也很少。超高纯铜的残余电阻率要比4N铜高20倍左右。实验表明：在4.2K时相同粗细的导线，6N铜的电阻为2.3×10-12Ωm，而4N铜的电阻为1.1×10-16Ωm。极低温度下6N铜的导电率要比4N铜高20倍左右，6N铜的某些性能与金相似，具有良好的导电性、延展性、抗腐蚀能力和表面性能，同时软化温度也很低(可能是铜晶格整齐，晶格能低)，6N铜在近350K软化，而4N铜在近440K时软化。超高纯铜在极低的温度下具有高的导热性，在8K时6N铜的导热率为3．0×104W／mK，而4N铜在18K时为3．1×103W／mK。超高纯铜所含的非金属杂质非常低，显微镜可以看到的晶格空缺也非常少。6N铜具有优良的加工性能，可以被拉成很细的铜丝，也可以被压制成很薄的铜箔。如果硫的含量很低的话，在600K～700K时铜的脆性将消失，而这时4N铜的脆性仍然存在。当氧含量很低时，氢脆现象也会消失。现代的高科技领域要求在不牺牲铜的导电率的条件下，提高铜的力学性能、抗腐蚀能力和表面性能。超高纯铜已被用于电子、通讯、超导、航天等尖端技术领域。
3.2用于高级音响制品中
OFC(无氧铜)现作为线材已被广泛应用于音响、影像制品中。为了提高播放声音的逼真度，6N铜线已被用于高级音箱的导线。因6N铜所含的杂质非常少，通过适当的热处理，减少晶界中的非金属杂质，可使晶界面积大大缩小，同时适当的热处理也可以大大降低晶格缺陷，使由导线的因素对感应电流的影响大大降低，从而使声音更逼真。与OFC线作导线的音箱相比，其中低音更浑厚、更生动，声音的细节更容易辨别，声音给人的感受更细腻、更自然。由于6N铜线的这些性能，使得其很快被应用于其它电器产品中。包括扬声器线圈、录像机、高清晰度电视等。
3．3用于粘结金属线
集成电路中的连接金属丝通常用金线，作为降低成本的措施，开始了以铜线代替金线的研究。作为铜粘结金属丝，最主要的一点就是要求其变形阻抗要小。当球形粘结时，更要最小限度地降低因球压而引起的硅片变形。这就要求作为粘结球的铜非常软，常温下希望硬度为HV=35，因此需要使用高纯度的铜，其杂质铁和硫的含量要求特别少。通过在反复电解精炼得到的高纯铜中添加脱硫剂进行区熔精炼，得到了含硫量低于0．1ppm的超高纯铜，其硬度也变软(HV=31～33)，达到了铜粘结球的软度要求。连接金属线是由通过“脱硫区熔精炼”的铜锭，经拉丝和热处理而成的￠20μm～30μm极细的线，硬度为HV=40～50。另外，铜锭拉丝以及进一步的加工过程中，必须对铜的表面质量进行有效的控制。
3．4用作耐疲劳电缆
现代化的工厂正朝着自动化智能化方向发展，这就需要大量的机械臂、机器人来代替人的劳动。在工作当中，工业机器人将完成各种动作，进行大量的重复运动。而传递指令控制机器人以及机器人内部需要大量的电缆传送信号，其中一些电缆线要随着机械臂的转动而转动，这就需要这些电缆线有很高的耐疲劳性能。超高纯铜的晶界面积小、晶格整齐，与4N铜相比，其柔性大大提高。抗弯曲疲劳实验表明，直径为0．5mm的超高纯铜合金线，在0．22％的拉伤力(使铜线拉断的最小力)来回弯曲下，其可弯曲的次数是TPC(韧性铜)线的260倍；同时超高纯铜具有良好的导电性可保证信号的保真传送。由超高纯铜制成的电缆具有很好的耐多次弯曲拉伸的性能，更能保证工厂机器人的正常工作，同时可以大大提高机器人的使用寿命。由于超高纯铜的晶格结构整齐，软化温度低，可以很容易地拉制成20μm～30μm的细导线，同时导电性能卓著，可以传输微弱信号，所以它也可用作微型探测机器人的传输电缆。
3.5其它用途
将6N级的超高纯铜拉丝后，进行以使其晶粒粗大化为目的的热处理，籍此使晶界面积减少至原来的1／80～／100，位错、空隙等缺陷密度降低，同时也除去了残余应力。另外，导电率也上升，从而获得信号传输特性优异、具有高保真效果的AV电缆线。据报道，用电解精炼和区熔精炼相结合得到的7N、8N的超高纯铜制成的AV电缆线已在市场上出现。藤原等人研究了将6N级超高纯铜作薄膜配线材料使用时，其与玻璃基板的附着结合强度，发现6N级超高纯铜薄膜的附着结合强度比4N级铜大2倍左右。6N级超高纯铜的3m轧制箔，由于其同时具有高导电率、优异的高频特性、良好的耐疲劳性、以及常温软化性等特性，所以不断被开发用作高级音频用印刷线路基板、印刷机用弹性配线板等。由于晶界会影响反射率，使反射下降等原因，所以单晶反射镜是最理想的。超高纯铜也被用作激光反射镜，但必须使用特别高纯化的铜制作。
酒井等以4N铜作基础，通过控制杂质以改善RRR值，采用连续真空脱气铸造，控制决定残余阻抗的杂质，以采用特殊的热处理方法，开发出了RRR值相当大的超导线稳定材料。
4、结语
当今，超高纯铜的精炼，主要是将重电解与区熔精炼结合起来，甚至要分别重复操作多次，这样的精炼对锭子的大型化、批量化生产是不利的。为获得低成本的高纯铜，就必须寻找制作成本低、而且重复少的精炼工序，这也是现今急需解决的一个问题。为维持精炼铜的纯度，后续的熔炼、铸造等加工工序也应加以改进，以便能彻底防止污染，为此，包括使用无尘室等的系统环境无尘化技术已被运用到了超高纯铜的精炼上。为彻底排除每个污染源，还必须提高解析污染途径的技术，因而必须重视微量分析技术、表面解析技术的发展。随着科技的发展、研究的深入，超高纯铜的一些优良的性质已经被人们所知，其在工业、科研方面的应用价值正不断被发现，在高科技领域，超高纯铜已被广泛应用，并取得了可喜的成果。现在影响超高纯铜大量应用的最大问题就是生产成本高，规模生产的精炼技术不成熟，但超高纯铜诱人的应用前景肯定会带动精炼技术的不断发展。可以预言，不久的将来，超高纯铜的精炼技术和应用都会得到很大的发展。